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LithoBook에 나오는 용어 168개입니다. 번호는 장·절이고, 누르면 그 절의 해당 문장으로 갑니다. 굵은 번호는 용어를 설명하는 곳입니다. 정의는 용어집에 있습니다.
168개
ㄱ
- 가변 성형 빔 Variable shaped beam VSB 06·6, 07·8
- 가장자리 배치 오차 Edge placement error EPE 07·3, 07·4, 07·5, 07·7, 07·9, 10·1, 10·7, 12·8, 12·9, 16·6
- 가장자리 조각 Fragment (edge segment) 07·5, 07·8, 07·9, 18·2
- 감쇠 위상 변이 마스크 Attenuated PSM att-PSM 02·7, 04·1, 06·3, 06·9, 13·5
- 개구수 Numerical aperture NA 01·2, 01·5, 01·6, 01·7, 01·8, 02·4, 02·5, 02·6, 02·8, 02·9
외 53곳
, 02·10, 03·1, 03·2, 03·3, 03·4, 03·5, 03·6, 03·7, 03·8, 03·9, 04·1, 04·2, 04·3, 04·4, 04·5, 04·6, 04·8, 05·1, 05·2, 05·4, 05·8, 05·9, 06·1, 06·4, 06·8, 06·9, 07·1, 07·2, 07·9, 08·7, 08·10, 10·1, 10·6, 11·10, 12·7, 13·1, 13·3, 13·4, 13·5, 13·8, 14·5, 14·8, 16·1, 16·8, 17·1, 17·2, 17·3, 17·5, 17·6, 17·7, 17·8, 18·2, 18·4 - 게이트 올 어라운드 Gate-all-around GAA 17·1, 17·3
- 게이트 피치 Contacted poly pitch CPP 17·1, 17·3
- 격자 방정식 Grating equation 02
- 겹침 윈도 Overlapping process window 10·2, 10·7, 10·8, 10·9
- 고차 보정 High-order correction HOWA / CPE 12·6, 12·7
- 곡선 마스크 Curvilinear mask 07·8
- 공간상 Aerial image 01·4, 02, 03·3, 03·8, 04·8, 05·2, 05·3, 06·7, 06·9, 08·1
- 공정 노드 Technology node 17
- 공정 윈도 Process window PW 01·4, 02·6, 03·6, 03·8, 04·7, 05·1, 07·7, 07·8, 08·5, 08·8
- 광 근접 보정 Optical proximity correction OPC 01·4, 02·8, 03·3, 03·6, 03·7, 04·7, 05·1, 06·1, 06·3, 06·6
- 광 근접 효과 Optical proximity effect OPE 07·1, 09·8
- 광산 발생제 Photoacid generator PAG 08·1, 08·2, 08·3, 08·6, 08·9, 14·2
- 광원-마스크 최적화 Source-mask optimization SMO 03·6, 04·7, 04·8, 07·8, 10·7
- 교번 위상 변이 마스크 Alternating PSM alt-PSM 06·4
- 국부 CD 균일도 Local CD uniformity LCDU 11·7, 11·8, 14·6
- 규칙 기반 OPC Rule-based OPC 07·4, 07·5
- 그림자 효과 Shadowing 13·5, 14·8
- 극자외선 Extreme ultraviolet EUV 01·1, 01·2, 01·5, 01·6, 01·8, 01·9, 02·3, 02·4, 02·9, 02·10
외 61곳
, 03·4, 03·5, 03·6, 03·7, 03·8, 03·9, 04·1, 04·3, 04·4, 04·5, 04·6, 04·8, 05·4, 05·6, 05·9, 06·1, 06·8, 06·9, 07·9, 08·1, 08·5, 08·9, 08·10, 09·5, 09·7, 10·6, 10·8, 10·9, 11·2, 11·8, 11·10, 12·7, 12·9, 13·1, 13·2, 13·5, 13·6, 13·7, 13·8, 14·1, 14·2, 14·5, 14·6, 14·7, 14·8, 15·2, 15·3, 15·12, 16·8, 16·9, 17·1, 17·2, 17·3, 17·4, 17·5, 17·6, 17·7, 17·8, 18·1, 18·2, 18·4 - 금속 산화물 레지스트 Metal-oxide resist MOR 08·9, 14·5, 14·6
- 금속 피치 Minimum metal pitch MP 01·8, 16·2, 16·8, 17·1
- 금지 피치 Forbidden pitch 04·4
- 끝-끝 간격 Tip-to-tip T2T 01·4, 01·9, 05·9, 07·9, 08·5, 08·10, 09·6, 09·9, 10·9, 16·6
ㄴ
- 노광 필드 Exposure field 01·5, 05·7, 11·5, 14·8
- 노광 후 베이크 Post-exposure bake PEB 08·1, 08·4, 08·6, 08·7, 09·1, 10·8, 11·5, 14·2
- 노광량 Exposure dose mJ/cm² 01·4, 01·5, 01·6, 02·6, 03·1, 03·3, 03·9, 05·1, 05·5, 06·3
외 53곳
, 06·8, 07·6, 07·7, 07·9, 08·3, 08·4, 08·5, 08·6, 08·8, 08·9, 08·10, 09·2, 09·3, 09·4, 09·6, 09·7, 09·8, 09·9, 10·1, 10·2, 10·3, 10·4, 10·5, 10·6, 10·7, 10·8, 10·9, 11·5, 11·6, 11·8, 11·9, 11·10, 12·7, 13·2, 13·6, 13·8, 14·1, 14·2, 14·3, 14·4, 14·5, 14·6, 14·7, 14·8, 14·9, 15·10, 15·11, 16·1, 17·6, 17·7, 18·2, 18·3, 18·4 - 노광량 여유도 Exposure latitude EL 10·2, 10·6, 10·7, 10·9, 11·5, 11·6
ㄷ
ㄹ
ㅁ
- 마스크 (레티클) Photomask / reticle 06·1, 06·2, 06·3, 06·4, 06·5, 06·6, 06·7, 06·8, 06·9
- 마스크 3D 효과 Mask 3D effect M3D 06·1, 06·9, 13·5, 18·1
- 마스크 검사와 수리 Mask inspection and repair 06
- 마스크 블랭크 Mask blank 06, 13·5
- 마스크 오차 증폭 인자 Mask error enhancement factor MEEF 02·9, 06·5, 06·7, 06·9, 07·5, 10·8, 11·5, 11·10
- 맨드릴 Mandrel 12·9, 16·4, 16·5, 16·6, 16·7, 16·9, 17·3, 17·7
- 멀티 패터닝 Multiple patterning MP 03·7, 12·7, 16·8, 16·9, 17·1, 17·2, 17·4, 17·5, 17·6, 17·8
- 멀티빔 마스크 묘화기 Multi-beam mask writer MBMW 06·6
- 모델 기반 OPC Model-based OPC 07·4, 07·5, 18·4
- 모서리 둥글어짐 Corner rounding 03·6, 07·2
ㅂ
- 바이너리 마스크 Binary intensity mask BIM 02·5, 03·6, 04·1, 06·2, 06·3
- 반사 방지막 Bottom anti-reflective coating BARC 08·7, 09·3, 10·8, 15·3
- 반사형 마스크 Reflective mask 01·5, 05·9, 06·9, 13·1, 13·6, 13·8, 14·8
- 벌집 커패시터 Honeycomb capacitor array 17
- 보성 곡선 Bossung curve 05·5, 09·4, 10·4, 10·5, 11·5
- 보정 가능 성분 Correctable 12·5
- 부분 간섭성 Partial coherence σ 04·3, 06·2
- 브래그 조건 Bragg condition 13
- 비축 조명 Off-axis illumination OAI 04·4
ㅅ
- 사중극 조명 Quadrupole (quasar / C-quad) illumination 03·6, 04
- 산 확산 Acid diffusion 08·5, 08·9, 08·10, 10·2, 10·8, 14·2, 14·5
- 산란 계측 Scatterometry / optical CD OCD 09·4, 11·3, 15·10
- 산탄 잡음 Photon shot noise 06·6, 14·1, 14·2, 15·7, 17·6, 18·1, 18·4
- 삼층 구조 Trilayer stack 15·3
- 상 대비 Image contrast 02, 04·8, 16·4
- 색 분해 Coloring (layout decomposition) 06·4, 16·3
- 선 가장자리 거칠기 Line-edge roughness LER 11·7, 12·8, 14·3, 14·5, 15·7, 15·10
- 선 끝 줄어듦 Line-end shortening LES 03·6, 07·2
- 선택비 Selectivity 12·8, 15·1, 15·2, 15·3, 15·6, 15·12, 16·7, 18·2
- 선폭 거칠기 Line-width roughness LWR 11·7, 11·10, 14·3, 15·10
- 세리프 Serif 06·6, 07·3, 07·5, 18·2
- 소광제 Quencher 08·1, 08·6, 14·2
- 소프트 베이크 Post-apply bake PAB 08·2
- 수차 Aberration 01·5, 03·8, 05·6, 05·8, 06·8, 10·3, 10·8, 12·3, 12·6, 12·7, 13·3, 13·4
- 스윙 곡선 Swing curve 08·7, 10·8
- 스캐너 Scanner 01·2, 01·5, 01·6, 01·8, 03·2, 03·7, 03·8, 04·2, 04·3, 04·8
- 스컴 Scum 09·3, 09·6
- 스테퍼 Stepper 01
- 스텝 앤드 스캔 Step-and-scan 01·5
- 스티칭 Stitching 14·8, 16
- 스페이서 Spacer 12·9, 13·8, 15·12, 16·1, 16·2, 16·4, 16·5, 16·6, 16·7, 16·9
- 스핀 온 카본 Spin-on carbon SOC 15·3
- 슬릿 Slit 01·5, 02·1, 02·2, 05·7, 11·5, 11·6, 12·6, 12·7, 13·5, 14·7
- 식각 바이어스 Etch bias 12·8, 14·9, 15·5, 15·10, 15·12
- 실리콘 함유 반사 방지막 Silicon-containing ARC SiARC 01·4, 08·7, 15·3, 15·11, 15·12, 18·2
- 쌍극 조명 Dipole illumination 04·4, 04·5, 04·8, 05·9, 06·9, 07·9, 08·10, 10·4, 10·7, 10·9
ㅇ
- 아나모픽 광학계 Anamorphic optics 14·8
- 액침 노광 Immersion lithography ArFi 02·3, 03·5, 05·4, 08·7, 16·2, 16·8, 17·7
- 양성 레지스트 Positive-tone resist 01·4, 08·8, 09·2, 09·3, 09·4, 15·8
- 엑시머 레이저 Excimer laser KrF / ArF 01·1, 01·2, 01·5, 01·6, 01·7, 01·8, 01·9, 02·3, 02·4, 02·9
외 52곳
, 02·10, 03·2, 03·4, 03·5, 03·6, 03·7, 03·8, 03·9, 04·3, 04·5, 04·8, 05·4, 05·6, 06·5, 07·1, 07·6, 08·1, 08·3, 08·4, 08·5, 08·7, 08·8, 08·9, 09·5, 09·7, 10·1, 10·6, 11·2, 12·7, 13·1, 13·2, 13·4, 13·5, 13·6, 13·8, 14·1, 14·2, 15·3, 15·12, 16·1, 16·5, 16·6, 16·8, 16·9, 17·1, 17·2, 17·3, 17·4, 17·5, 17·6, 17·7, 18·4 - 역 리소그래피 Inverse lithography technology ILT 06·6, 07·8
- 영상 기반 오버레이 Image-based overlay IBO 12
- 영상 로그 기울기 Normalized image log-slope NILS 02·6, 03·3, 05·9, 06·3, 06·5, 07·2, 08·5, 08·10, 09·4, 10·2
- 오버레이 Overlay OVL 05·6, 06·8, 06·9, 12·1, 12·2, 12·3, 12·4, 12·5, 12·7, 12·8
- 웨이퍼 스테이지 Wafer stage 01·5, 05·7, 12·2
- 위상 변이 마스크 Phase-shift mask PSM 02·5, 02·7, 03·6, 03·7, 04·1, 04·3, 06·1, 06·2, 06·3, 06·4
- 음성 레지스트 Negative-tone resist 08, 09·7
- 음성 톤 현상 Negative-tone development NTD 08·8, 09·7, 15·8
- 이방성 식각 Anisotropic etch 15
- 임계 치수 Critical dimension CD 01·3, 01·5, 01·7, 01·9, 03·1, 03·6, 03·9, 05·5, 06·9, 07·4
ㅈ
- 자기 정렬 사중 패터닝 Self-aligned quadruple patterning SAQP 01·8, 12·9, 13·8, 16·1, 16·5, 16·8, 16·9, 17·1, 17·2, 17·4
- 자기 정렬 이중 패터닝 Self-aligned double patterning SADP 12·9, 16·1, 16·4, 16·5, 16·8, 16·9, 17·1, 17·2, 17·3, 17·5
- 잔차 Residual 05·8, 11·3, 11·5, 12·5, 12·6, 12·7
- 전자빔 묘화기 E-beam mask writer 06·6, 07·8
- 정렬 Alignment 01·6, 10·7, 12·2, 12·3, 12·4, 12·5, 12·6, 12·8, 12·9, 13·2
- 정렬 마크 Alignment mark 12·2, 12·3, 12·4, 12·5
- 정상파 Standing wave 08·7, 08·9, 09·3
- 제르니케 다항식 Zernike polynomials Z5 … Z11 05·6
- 조밀-고립 편차 Iso-dense bias 07·2
- 종횡비 Aspect ratio AR 01·3, 08·10, 09·5, 09·6, 09·9, 14·8, 15·2, 15·3, 15·5, 15·6
- 주광선 입사각 Chief ray angle CRA 13
- 주석 액적 Tin droplet 13
- 중간 초점 Intermediate focus IF 13·2, 13·4, 13·8
- 중앙 차폐 Central obscuration 14·8
- 집광 거울 Collector 13·2
ㅊ
- 차단 피치 Cutoff pitch 04·3
- 처리량 Throughput wph 01·6, 04·8, 11·8, 12·2, 13·2, 13·6, 13·8, 14·7, 14·8, 14·9
- 첨단 공정 제어 Advanced process control APC 11·9
- 초점 심도 Depth of focus DOF 03·8, 03·9, 04·6, 05·2, 05·3, 05·4, 05·5, 05·6, 05·8, 05·9
- 초점-노광량 행렬 Focus-exposure matrix FEM 10·5, 10·6
- 최소 선폭 F Minimum feature size F 17
- 최적 초점 Best focus 05·6, 05·8, 05·9, 07·6, 07·7, 10·3, 10·9
- 축소 투영 Reduction projection 4× 01·2, 01·9, 06·1
- 측벽 각도 Sidewall angle SWA 09·3, 09·4, 10·5, 11·1, 11·2, 11·3
ㅋ
ㅌ
ㅍ
- 패턴 붕괴 Pattern collapse 08·9, 09·6
- 패턴 전사 Pattern transfer 08·9, 15·1
- 펠리클 Pellicle 03·7, 06·1, 06·8, 06·9, 13·4, 13·6, 13·7, 13·8, 16·8
- 편광 Polarization 04·5, 06·1, 06·9, 11·3, 12·2, 12·3, 17·8, 18·1
- 포토레지스트 Photoresist PR 01·2, 08
- 푸팅 Footing 09·4
- 플레어 Flare 13·7
- 피치 Pitch 01·1, 01·3, 01·4, 01·5, 01·6, 01·7, 01·8, 01·9, 02·3, 02·4
외 75곳
, 02·5, 02·7, 02·8, 02·9, 02·10, 03·1, 03·2, 03·3, 03·4, 03·6, 03·7, 03·8, 03·9, 04·1, 04·2, 04·3, 04·4, 04·5, 04·6, 04·8, 05·2, 05·6, 05·9, 06·4, 06·5, 06·9, 07·1, 07·2, 07·4, 07·6, 07·8, 07·9, 08·3, 08·5, 08·9, 08·10, 09·6, 10·1, 10·7, 10·9, 11·1, 11·3, 11·7, 11·10, 12·1, 12·2, 12·3, 12·9, 13·5, 13·7, 13·8, 14·5, 14·6, 14·8, 15·3, 15·5, 15·9, 15·12, 16·1, 16·2, 16·4, 16·5, 16·6, 16·7, 16·8, 16·9, 17·1, 17·2, 17·3, 17·4, 17·5, 17·6, 17·7, 17·8, 18·2 - 피치 워킹 Pitch walking 12·9, 16·4, 16·6, 16·8
ㅎ
- 하드마스크 Hardmask HM 01·4, 05·8, 09·5, 09·7, 09·9, 12·2, 12·8, 14·9, 15·3, 15·5
- 하프 피치 Half-pitch HP 01·6, 03·1, 03·2, 03·4, 03·6, 03·7, 03·8, 03·9, 14·5
- 핫스폿 Hotspot 05·7, 07·7, 07·8, 10·7
- 해머헤드 Hammerhead 06·6, 07·3, 07·4, 07·5, 07·9, 18·2
- 해상 한계 이하 보조 패턴 Sub-resolution assist feature SRAF 03·6, 04·4, 05·5, 06·9, 07·6, 07·7, 07·8, 10·7, 18·2
- 해상도 Resolution 01·2, 01·3, 01·5, 02·9, 03·2, 03·5, 03·6, 03·8, 03·9, 04·6
- 해상도 향상 기술 Resolution enhancement technique RET 03·6, 03·9, 17·2
- 현상 Development 01·4, 05·1, 06·6, 07·5, 08·1, 08·7, 08·8, 08·10, 09·1, 09·2
- 화학 증폭형 레지스트 Chemically amplified resist CAR 08·1, 08·4, 08·8, 08·9, 09·1, 09·2, 09·7, 14·1, 14·2
- 확률적 결함 Stochastic defect 05·8, 10·8, 10·9, 13·8, 14·4, 14·9, 15·7, 16·8, 16·9, 17·6
- 환형 조명 Annular illumination 03·6, 04, 07·1
- 회절 Diffraction 01·2, 02·1, 02·3, 02·5, 02·8, 02·9, 02·10, 03·1, 03·6, 03·9
- 회절 기반 오버레이 Diffraction-based overlay DBO 12·3
- 회절 차수 Diffraction order 02·3, 02·5, 03·1, 04·1, 05·2, 05·6, 10·3, 10·4, 12·2, 13·5
- 흡수체 Absorber 02·9, 06·1, 06·2, 06·3, 06·6, 06·7, 06·9, 10·9, 12·7, 13·1
C
E
H
K
- k₁ 인자 k1 factor k₁ 03
L
M
- Mo/Si 다층막 Mo/Si multilayer 13
P
- PV 밴드 Process variation band PV band 07·7
R
- RLS 트레이드오프 Resolution-LER-sensitivity trade-off RLS 14·5
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