Chapter 17

용어집 & 종합 퀴즈

도핑 엔지니어의 대화도 짧은 말로 이루어진다. Rp, ΔRp, PAI, EOR, TED, SPER, Rs, 4PP, SIMS, PLAD… 이 장은 책 전체에 흩어진 용어를 한곳에 모은 사전이고, 자주 쓰는 식을 한 장에 모은 공식집이며, 1장부터 16장까지를 되짚는 종합 퀴즈다.

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용어집

검색창에 한국어(예: 채널링), 영어(예: straggle), 약어(예: TED) 중 아무것이나 입력하면 바로 걸러진다. 정의 본문도 검색 대상이고, 용어 이름이 일치하는 항목이 먼저 나온다. 분야 칩으로 범위를 좁히고, 정렬을 바꿔 장 순서대로 훑어볼 수도 있다.

분야
정렬
같은 말, 다른 뜻 '활성화'는 도펀트가 격자 자리에 들어가 캐리어를 내놓는 일(어닐)이지만, '활성화 에너지'는 아레니우스 식의 Eₐ다. '도즈'는 넣은 원자 수(cm⁻²)이고 '농도'는 부피당 원자 수(cm⁻³)다. '접합 깊이'는 바탕 농도를 무엇으로 잡느냐에 따라 달라지므로 늘 기준 농도와 함께 적는다.

공식 모음

이 책에서 되풀이해 쓰는 식을 한곳에 모았다. 식마다 제목 옆의 링크가 유도와 시뮬레이터가 있는 장이다.

질량 작용 법칙→ 01장

$$np = n_i^2, \qquad n \approx N_D - N_A$$
다수 캐리어 ≈ 순 도핑, 소수 캐리어 ≈ nᵢ²/N.

도즈와 평균 농도→ 01장

$$\bar N \approx \Phi / t$$
10¹⁵ cm⁻²를 10 nm에 넣으면 10²¹ cm⁻³.

차일드-랭뮤어→ 03장

$$J_{\max} = \frac{4\varepsilon_0}{9}\sqrt{\frac{2q}{M}}\frac{V^{3/2}}{d^2}$$
저에너지·무거운 이온일수록 추출 전류가 준다.

자기 강성→ 04장

$$B\rho = \sqrt{\frac{2MV}{q}}$$
30 kV, ¹¹B⁺, ρ = 0.5 m이면 약 0.17 T.

퍼비언스→ 05장

$$K = \frac{qI}{2\pi\varepsilon_0 M v^3} \propto \frac{I\sqrt{M}}{E^{3/2}}$$
크면 빔이 공간 전하로 부푼다.

도즈→ 06장

$$\Phi = \frac{1}{zqA}\int I\,dt$$
1 mA는 초당 6.2×10¹⁵개의 1가 이온.

가우시안 주입→ 08장

$$N(x) = \frac{\Phi}{\sqrt{2\pi}\Delta R_p}e^{-\frac{(x-R_p)^2}{2\Delta R_p^2}}$$
첨두 Φ/(√(2π)ΔRp).

접합 깊이(가우시안)→ 08장

$$x_j = R_p + \Delta R_p\sqrt{2\ln(N_p/N_B)}$$
도즈에 대한 의존이 약하다.

린하드 임계각→ 09장

$$\psi_1 = \sqrt{\frac{2Z_1Z_2e^2}{4\pi\varepsilon_0 E d}}$$
낮은 에너지에서는 토머스-페르미 보정 ψ₂를 쓴다.

킨친-피즈→ 10장

$$N_d \approx \frac{0.8E_n}{2E_d}$$
Eₙ: 핵 충돌로 넘긴 에너지, E_d ≈ 15 eV.

SPER 속도→ 11장

$$v = v_0\,e^{-E_a/kT},\ E_a \approx 2.7\ \text{eV}$$
600 °C에서 약 1 nm/s.

확산→ 12장

$$\frac{\partial C}{\partial t} = \frac{\partial}{\partial x}\Big(D\frac{\partial C}{\partial x}\Big),\ D = D_0e^{-E_a/kT}$$
붕소 Eₐ ≈ 3.46 eV.

외인성 확산(붕소)→ 12장

$$D_B = D^0 + D^+\,p/n_i$$
진한 영역이 빨리 퍼져 상자 모양.

열 예산→ 13장

$$(Dt)_{\text{eff}} = \int D(T(t))\,dt,\ L = \sqrt{2Dt}$$
대부분 최고 온도 근처에서 쌓인다.

면저항→ 14장

$$\frac{1}{R_s} = \int_0^{x_j} q\mu N_{\text{act}}\,dx,\ R_s \approx 4.532\frac{V}{I}$$
4점 탐침 식은 넓고 얇은 층.

그림자→ 15장

$$L_{\text{shadow}} = h\tan\theta$$
촘촘한 구조에서 틸트 주입을 제한한다.

핀 옆면 도즈→ 16장

$$\Phi_{\text{side}}/\Phi_{\text{top}} = \tan\theta$$
이웃 핀에 가리는 깊이 ≈ 간격 / tan θ.

종합 퀴즈

1장부터 16장까지 전 범위에서 낸 22문항이다. 한 문제씩 풀면 해설과 관련 장 링크가 나오고, 끝까지 풀면 점수와 등급, 다시 볼 장을 보여 준다. 다시 풀기를 누르면 문제 순서와 보기 순서가 새로 섞인다.

문제 1 / 22정답 0

마치며

  1. 도핑은 원자 몇 %의 정체와 위치를 바꾸는 일이다. 10¹⁴~10²¹ cm⁻³의 일곱 자릿수를 로그 축으로 다룬다.
  2. 장비는 이온을 만들고, 고르고, 보내고, 센다. 추출 한계와 공간 전하가 저에너지 고전류를 어렵게 하고, 감속 모드는 에너지 오염이라는 대가를 남긴다.
  3. 이온이 멈추는 방식이 분포를 정한다. 핵 저지와 전자 저지, Rp와 ΔRp, 결정의 통로(채널링), 그리고 그 길에 남긴 손상.
  4. 어닐은 활성화와 확산의 줄다리기다. 고용 한계, 재성장, TED, 열 예산. 더 뜨겁고 훨씬 짧게.
  5. 재지 않으면 모른다. 면저항, SIMS, 써멀 웨이브가 서로 다른 것을 본다. 3차원 구조에서는 넣는 방법 자체가 바뀐다.