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PlasmaBook에 나오는 용어 393개입니다. 번호는 장·절이고, 누르면 그 절의 해당 문장으로 갑니다. 굵은 번호는 용어를 설명하는 곳입니다. 정의는 용어집에 있습니다.
393개
ㄱ
- 가둠 링 confinement ring 09·1, 09·8, 09·9
- 가상 계측 virtual metrology VM 17·9
- 가장자리 비 edge-to-centre density ratio h 01·5, 06·4, 06·6, 07·2, 07·3, 08·1, 08·2, 10·7
- 강결합 플라즈마 strongly coupled plasma 02
- 거대 입자 macro-particle 16·5
- 결합 파라미터 coupling parameter Γ 02·4, 13·10
- 결합 효율 power coupling efficiency η 12·3, 17·1
- 고장 감지와 분류 fault detection and classification FDC 11·11, 15·1, 15·13, 17·6, 17·7, 17·9
- 고조파 harmonics 09·2, 11·9, 11·11, 15·1, 15·5, 15·8, 15·13, 17·6
- 고차 실레인 higher silanes SiₙH₂ₙ₊₂ 13·7, 13·11
- 고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링 high-power impulse magnetron sputtering HiPIMS 05·9, 12·7, 12·10, 17·1
- 공명 전하 교환 resonant charge exchange 03·3, 06·1
- 공정 창 process window 01·7, 17·3
- 과밀 플라즈마 overdense plasma 02
- 교정과 검증 calibration and validation 16·7
- 구름 입자 할당 cloud-in-cell weighting CIC 16·5
- 국소 근사 local field approximation 04·6, 16·4
- 국소 평균 에너지 근사 local mean energy approximation LMEA 16·4, 16·8
- 국소장 근사 local field approximation LFA 01·3, 16·2, 16·3, 16·4, 16·8
- 궤도 운동 제한 이론 orbital motion limited theory OML 13·10, 15·3
- 균질 모델 homogeneous model 09·2, 09·3, 09·9
- 극저온 식각 cryogenic etching 17·9
- 금속 이온 귀환 metal ion back-attraction β 12
- 기여도 분석 contribution analysis 17
- 기울기 온도 slope temperature T_slope 04
- 기체 가열 gas heating T_g 02·5, 03·8, 08·9, 13·9
- 기체 고갈 neutral gas depletion 08·9, 13·9, 13·11
- 기체 방전 gas discharge 01·2
- 기체 수밀도 gas number density n_g 03
- 꼬리 고갈 tail depletion 04·2, 04·7, 08·9
ㄴ
ㄷ
- 다극 커스프 가둠 multipole cusp confinement 06
- 다중 구역 코일 multi-zone coil 10·6
- 대기압 플라즈마 atmospheric-pressure plasma APP 17·9
- 대전 손상 plasma-induced charging damage PID 01·8, 12·10, 14
- 대전 완화 charging relief 12·10, 17·9
- 데바이 길이 Debye length λ_D 01·1, 01·2, 01·4, 01·8, 02·2, 02·7, 06·3, 07·3, 11·5, 15·1
- 데바이 차폐 Debye shielding 02·2, 02·4, 07·1
- 동기 펄스 synchronous pulsing 12·6, 14·9
- 두 봉우리 IEDF bimodal IEDF 07·7, 15·10
- 두 온도 분포 bi-Maxwellian distribution 04·2, 04·6, 15·4
- 듀티 duty cycle D 08·8, 12·1, 12·3, 12·6, 12·7, 12·9, 12·10, 14·9, 17·1
- 드루이베스테인 법 Druyvesteyn method 04·1, 15·4
- 드루이베스테인 분포 Druyvesteyn distribution 04·2, 13·1
- 드루이베스테인법 Druyvesteyn method 15·4
ㄹ
- 라모어 반지름 Larmor radius r_L 06·7
- 래디컬 radical 01·3, 01·4, 01·6, 01·7, 01·8, 03·3, 03·7, 04·4, 04·7, 08·5
- 래디컬 플럭스 radical flux Γ_n 01·4, 13·2, 13·9, 14·2
- 래디컬/이온 플럭스 비 neutral-to-ion flux ratio Γ_n/Γ_i 13
- 램사우어 최소 Ramsauer–Townsend minimum 03·1, 03·4, 04·1, 04·2, 04·3, 04·6
- 랭뮤어 탐침 Langmuir probe 02·2, 04·1, 15·1, 15·2, 15·13
- 런투런 제어 run-to-run control R2R 17·9
- 레시피 recipe 04·7, 05·7, 10·4, 11·7, 13·2, 14·2, 14·6, 17·1, 17·2, 17·3
- 레이스트랙 racetrack 05·9
- 립프로그 적분 leapfrog integration 16
ㅁ
- 마그네트론 magnetron 01·7, 01·8, 02·7, 05·7, 05·9, 05·10, 06·7, 12·7, 17·1
- 마이크로파 간섭계 microwave interferometer 02·6, 15·9, 15·13
- 맞춤 파형 tailored waveform 12·8, 12·10, 17·9
- 맥스웰 분포 Maxwellian distribution f_M 03·6, 03·7, 04·1, 04·2, 04·5, 12·2, 13·4, 15·2, 15·4, 15·6
- 맥스웰화 Maxwellization 04·5, 04·7
- 먼지 플라즈마 dusty plasma 02·4, 13·10
- 면적 법칙 area law 09·8
- 면적비 법칙 area ratio law 07·6
- 모델 위계 model hierarchy 16·1
- 몬테카를로 충돌 Monte Carlo collision MCC 03·9, 16·1, 16·5, 16·8
- 무부하 Q unloaded Q Q_u 11·8
- 무충돌 가열 stochastic (collisionless) heating ν_stoc 03·2, 04·7, 09·3, 10·2, 10·3
- 무충돌 시스 collisionless sheath 01, 07·2, 07·4, 16·8
- 무충돌 표피 collisionless (inertial) skin depth c/ω_pe 10·2
- 문턱 민감도 threshold sensitivity d ln K/d ln Tₑ 03·7
- 문턱 에너지 threshold energy E_th 03·3
- 문턱 이온화 질량 분석 threshold ionization mass spectrometry TIMS 15·11
- 물질의 네 번째 상태 fourth state of matter 01
- 밀도 축척 density scaling 16·8
- α 모드 alpha mode 05·10, 09·5
- γ 모드 gamma mode 09·5
ㅂ
- 바이어스 독립성 independent bias control 10
- 반경 균일도 radial uniformity 06·8, 10·9, 17·2
- 반사 계수 reflection coefficient Γ 01·5, 11·3, 11·4, 11·10
- 반사 손실 return loss RL 01·5, 11·2, 11·3, 11·6, 11·8, 12·3, 17·2
- 반사 저항 reflected (transferred) resistance R_s 10·3
- 반사 전력 스파이크 reflected power spike 12·9
- 반사파 reflected wave 02·6, 11·2
- 반암시적 포아송 semi-implicit Poisson 16·3
- 반응 속도 계수 rate coefficient K 03·2, 03·6
- 발광 분광 optical emission spectroscopy OES 03·3, 03·8, 15·1, 15·6, 15·7, 15·13, 16·7, 17·5, 17·6, 17·7, 17·9
- 방위각 유도 전기장 azimuthal induced electric field E_θ 10·5
- 방전 개시 breakdown 01·8, 05·3
- 방해 글로 obstructed glow 05·10
- 벡터 퍼텐셜 vector potential A_θ 10·1
- 벽 손실 주파수 wall loss frequency k_w 13·9
- 벽 재결합 계수 wall recombination coefficient γ 13·2, 13·6, 14, 16·7, 17·2, 17·7
- 변압기 모델 transformer model 10·3, 11·5, 13·8
- 보옴 기준 Bohm criterion 06·8, 07·2
- 보옴 속도 Bohm velocity u_B 01·5, 06·3, 06·6, 07·1, 07·2, 08·1, 08·7, 10·9, 12·2, 13·4
- 보옴 확산 Bohm diffusion D_B 06·7
- 보옴-그로스 분산 Bohm–Gross dispersion 02·3, 16·5
- 보호 다이오드 protection diode 14·7, 14·9
- 복소 유전율 complex plasma permittivity ε_p 10·2
- 볼츠만 관계 Boltzmann relation 02·2, 06·2, 07·1
- 볼츠만 방정식 Boltzmann equation 04·3, 04·5, 16·1
- 부 글로 negative glow 05·6, 05·8, 05·10
- 부유 전위 floating potential V_f 07·1, 07·7, 13·10, 14·7, 15·2
- 부하 커패시터 load capacitor C_load 11
- 블로킹 커패시터 blocking capacitor 07·5, 09·8, 16·6
- 비국소 EEDF nonlocal EEDF 03·2, 04, 10·2, 16·8
- 비대칭 방전 asymmetric discharge 07
ㅅ
- 사이클로트론 주파수 cyclotron frequency ω_c 06·7
- 사중극자 질량 분석기 quadrupole mass spectrometer QMS 15·11
- 사하 식 Saha equation 02·5
- 삽입 반응 insertion reaction 13
- 상호 변조 intermodulation IMD 11·9
- 샤페터-거멜 이산화 Scharfetter–Gummel scheme SG 16·2, 16·3
- 선택비 selectivity 12·6, 12·10, 13·4, 13·5, 14·2, 14·9, 17·2, 17·3
- 셀 페클레 수 cell Peclet number a 16·2
- 소유 비용 cost of ownership CoO 17·8
- 손상 완화 조건 지도 damage-mitigation map 14
- 쇼트키 조건 Schottky condition 05·6, 06·4
- 스로틀 밸브 throttle valve 01·5, 13·2, 17·6
- 스미스 차트 Smith chart 11·4, 11·6
- 스톨레토프 점 Stoletov point 05·2, 05·4
- 스퍼터 문턱 에너지 sputtering threshold energy E_th 14
- 스퍼터 수율 sputter yield Y 05·9, 12·7, 14·3
- 습식 세정 wet clean 17·7
- 시간 의존 전역 모델 time-dependent global model 08·8, 12
- 시간 평균 밀도 time-averaged density ⟨nₑ⟩ 12·3
- 시스 sheath 01·4, 01·5, 01·6, 01·8, 02·1, 02·2, 02·3, 02·6, 02·7, 03·2
외 69곳
, 03·3, 03·8, 04·2, 04·6, 04·7, 05·7, 05·8, 05·9, 05·10, 06·1, 06·3, 06·6, 06·8, 07·1, 07·2, 07·3, 07·4, 07·5, 07·6, 07·7, 08·1, 08·2, 08·3, 09·1, 09·2, 09·3, 09·4, 09·5, 09·6, 09·7, 09·8, 09·9, 10·4, 10·5, 10·7, 10·8, 10·9, 11·5, 11·9, 11·10, 12·3, 12·4, 12·6, 12·8, 13·4, 13·9, 13·10, 14·1, 14·2, 14·7, 15·2, 15·3, 15·4, 15·5, 15·8, 15·9, 15·10, 15·13, 16·1, 16·2, 16·3, 16·4, 16·6, 16·8, 17·1, 17·2, 17·6, 17·8, 17·9 - 시스 경계 밀도 sheath-edge density n_s 07·2, 07·3, 07·7, 08·1, 12·8
- 시스 방정식 sheath equation 07·2
- 시스 보정 인자 sheath correction factor ξ 15·9
- 시스 진동 진폭 sheath oscillation amplitude s₀ 09
- 시스 커패시턴스 sheath capacitance C_s 09, 11, 15·5, 15·8
- 시스 팽창 sheath expansion 15·3
- 시즈닝 chamber seasoning 05·10, 11·11, 12·9, 13·2, 13·6, 13·11, 14·6, 14·9, 17·7
- 실효 길이 effective plasma size d_eff 08·2
- 실효 면적 effective loss area A_eff 07·6, 08
- 쌍당 충돌 손실 에너지 collisional energy loss per electron-ion pair 𝓔_c 08
- ω² 스케일링 frequency-squared scaling n ∝ ω² 09
ㅇ
- 아벨 변환 Abel inversion 15·9
- 아인슈타인 관계 Einstein relation 06·2, 16·2
- 아크 arc 05·5, 05·8, 05·10, 09·5, 11·10, 11·11, 12·9
- 아크 방전 arc discharge 05
- 안정 저항 ballast resistor R 05·5, 05·10
- 안테나 효과 antenna effect 14·7
- 안테나비 antenna ratio AR 14·7
- 애싱 ashing 01·7, 10·8, 17·1, 17·4
- 액티노메트리 actinometry 03·3, 13·5, 15·6, 15·7, 15·13
- 약결합 플라즈마 weakly coupled plasma 02·4
- 약전리 플라즈마 weakly ionized plasma 01·2
- 양광주 positive column 05·6, 05·10, 06·4
- 양극성 전기장 ambipolar electric field E_a 06·3
- 양극성 확산 ambipolar diffusion 02·7, 05·6, 06·3, 06·4, 10·6, 12·2, 16·6, 17·3
- 언더컷 undercut 01·4
- 에너지 공간 흐름 energy-space flux G(ε) 04
- 에너지 완화 길이 energy relaxation length λ_ε 04·6, 10·6
- 에너지 이완 길이 energy relaxation length λ_ε 16·1, 16·4, 17·3
- 에너지 전달 비 energy transfer fraction δ 03
- 여기 excitation 01·1, 01·3, 01·8, 02·7, 03·1, 03·3, 03·5, 03·7, 03·8, 04·1
- 예방 정비 preventive maintenance PM 17·7
- 예비 시스 presheath 03·8, 06·1, 06·3, 06·6, 07·1, 07·2, 07·3, 08·2, 08·3, 12·3
- 오제 중성화 Auger neutralization 14·5
- 용량 결합 플라즈마 capacitively coupled plasma CCP 01·4, 01·7, 01·8, 02·3, 02·6, 04·2, 04·5, 04·6, 04·7, 07·6
- 운동량 전달 충돌 빈도 momentum-transfer collision frequency ν_m 02·7
- 운동량 전달 충돌 주파수 momentum-transfer collision frequency ν_m 03·2, 06·1, 09·2
- 운동론 모델 kinetic model 16·4
- 원격 플라즈마 remote plasma 01·8, 13·8
- 원격 플라즈마 소스 remote plasma source RPS 13·8
- 원격 플라즈마 챔버 세정 remote plasma chamber clean RPS clean 17
- 웨이퍼 없는 자동 세정 waferless auto clean WAC 14·6, 14·9, 17·7
- 위상각 phase angle φ 15
- 유도 결합 플라즈마 inductively coupled plasma ICP 01·3, 01·4, 01·5, 01·6, 01·7, 01·8, 02·3, 02·6, 02·7, 04·5
- 유도 결합 플라즈마 식각 ICP etch with bias ICP 01·3, 01·4, 01·5, 01·6, 01·7, 01·8, 02·3, 02·6, 02·7, 04·5
- 유전 이완 시간 dielectric relaxation time τ_d 16·2, 16·3
- 유전막 충전 dielectric charging 12·8
- 유체 모델 fluid model 06·8, 07·2, 16, 17·9
- 유카와 전위 Yukawa (screened Coulomb) potential 02
- 유한 격자 불안정 finite grid instability 16·5
- 유효 면적 effective loss area A_eff 06·6
- 유효 전기장 effective electric field E_eff 04, 05·7
- 유효 전자 온도 effective electron temperature T_eff 04
- 유효 플라즈마 길이 effective plasma size d_eff 06·6
- 음극 강하 cathode fall V_c 05·5, 05·6, 05·8, 05·10
- 이동도 mobility μ 03·2, 03·5, 05·6, 06·1, 06·2, 06·3, 06·5, 07·3, 08·2, 16·2
- 이류 불안정 two-stream instability 16·5
- 이방성 anisotropy 01·4, 14·9, 17·2
- 이방성 식각 anisotropic etch 01·4
- 이상 글로 abnormal glow 05·5, 05·10
- 이상 표피 효과 anomalous skin effect δ_a 10
- 이온 각도 분포 ion angular distribution IADF 07·4
- 이온 강화 식각 ion-enhanced etching 13·6, 14·1, 14·4, 17·2
- 이온 강화 식각 속도 모델 ion-enhanced etch rate model 17
- 이온 끌림 ion drag force 13·10
- 이온 에너지 분포 ion energy distribution function IEDF 01·7, 02·3, 03·2, 03·3, 07·4, 07·7, 09·6, 10·7, 12·8, 12·10
- 이온 에너지 플럭스 ion energy flux q_ion 14
- 이온 전이 시간 ion transit time τᵢ 09
- 이온 제한 영역 ion-limited regime 14, 17·2
- 이온 충격 에너지 ion energy lost at the wall 𝓔ᵢ 08
- 이온 통과 시간 ion transit time τᵢ 07·4, 12
- 이온 평균 자유 행로 ion mean free path λᵢ 01·4, 06·6, 07·1, 07·3, 08·2, 15·10
- 이온 포화 전류 ion saturation current I_is 15·12
- 이온 플라즈마 주파수 ion plasma frequency f_pi 02
- 이온 플럭스 ion flux Γᵢ 01·4, 01·5, 04·7, 06·6, 06·8, 07·1, 08·4, 08·5, 08·6, 09·4
- 이온-래디컬 시너지 ion–radical synergy 01, 17·2
- 이온-이온 재결합 ion-ion recombination 08·6, 13·6
- 이온-이온 플라즈마 ion-ion plasma 08·6, 12·5, 16·8
- 이온-중성 시너지 ion–neutral synergy 13·4, 14, 17·9
- 이온당 총 손실 에너지 total energy lost per ion 𝓔_T 03, 08
- 이온화 속도 계수 ionization rate coefficient K_iz 08
- 이온화 에너지 ionization energy U_iz 02·5, 05·1, 05·2, 08·7, 14·2, 14·5
- 이온화도 ionization degree nₑ/N 02·5, 04·5, 04·7
- 이중 주파수 용량 결합 플라즈마 dual-frequency capacitively coupled plasma DF-CCP 17
- 이중 주파수 CCP dual-frequency CCP DF-CCP 01·7, 01·8, 02·3, 07·7, 09·1, 09·6, 11·9, 17·1, 17·2
- 일반 지수 분포 generalized exponential distribution 04·2
- 임피던스 정합 impedance matching 11
- 임피던스 정합기 impedance matching network 01
- 입자 간 평균 거리 Wigner–Seitz radius a 02
- 입자 균형 particle balance 01·3, 01·5, 02·5, 03·2, 03·7, 04·7, 06·6, 08·2, 08·3, 08·4
- 입자-격자법 particle-in-cell PIC 03·9, 09·3, 16·1, 16·5, 16·8
ㅈ
- 자기 바이어스 DC self-bias V_dc 07·1, 07·5, 07·6, 07·7, 09·1, 09·4, 09·6, 09·8, 13·10, 15·1
- 자기장 가로 확산 cross-field diffusion D⊥ 06·7
- 자동 정합기 automatic matching network 11
- 자체 유지 조건 self-sustainment condition 05·3, 05·4, 05·9
- 잔광 afterglow 04·7, 06·4, 08·6, 08·8, 12·1, 12·2, 12·3, 12·5, 12·6, 12·10
- 재결합 에너지 recombination energy E_rec 01·5, 14·1, 14·2
- 재점화 re-ignition 12·3, 12·4, 12·10
- 저감 장치 abatement 13·8, 17·4
- 저온 비평형 플라즈마 low-temperature non-equilibrium plasma 01·3
- 저항 가열 ohmic heating 09·3, 09·4, 09·7
- 전기 음성 플라즈마 electronegative plasma 06·8, 08, 13
- 전기 음성도 electronegativity α 08·6
- 전기 음성도 비 electronegativity α 12
- 전달 전력 delivered power P_del 01·5, 11·3, 15·8, 15·13, 17·5
- 전력 균형 power balance 01·5, 03·8, 06·6, 06·8, 07·1, 08·2, 08·4, 08·6, 08·8, 09·4
- 전력 전달 효율 power transfer efficiency η 10·3, 11·8, 13·8, 16·7, 17·2
- 전리도 ionization degree x 01·3, 01·5, 02·5, 02·7, 08·4, 08·9
- 전송선 transmission line 09·7, 11·2
- 전압 정재파비 voltage standing wave ratio VSWR 11·2, 11·3, 11·4
- 전역 모델 global model 01·5, 01·8, 03·8, 04·5, 05·6, 05·10, 06·6, 08·1, 08·4, 08·6
- 전자 관성 인덕턴스 electron inertia inductance L_p 09·2, 10
- 전자 그늘 electron shading 12·5, 12·6, 14·7, 14·9, 16·8
- 전자 밀도 electron density nₑ 01·1, 01·2, 02·1, 04·1, 07·2, 08·1, 08·6, 08·7, 12·7, 13·1
- 전자 사이클로트론 공명 electron cyclotron resonance ECR 06·7, 10·8
- 전자 사태 electron avalanche 05·1, 16·3
- 전자 에너지 분포 함수 electron energy distribution function EEDF 01·8, 03·2, 03·4, 03·6, 04·1, 04·3, 04·7, 08·1, 08·9, 10·2
- 전자 에너지 확률 함수 electron energy probability function EEPF 04·1, 04·2, 04·3, 04·5, 04·6, 04·7, 12·2, 15·4
- 전자 온도 electron temperature Tₑ 01·1, 01·2, 01·3, 02·1, 02·2, 02·5, 03·6, 04·2, 05·10, 08·1, 16·6
- 전자 지연 영역 electron retardation region 04·2, 15
- 전자 진동 진폭 electron oscillation amplitude x₀ 05·7
- 전자 충돌 이온화 electron-impact ionization 03, 15·11
- 전자 충돌 해리 electron-impact dissociation 01·3, 03·9, 13·7
- 전자 평균 자유 행로 electron mean free path λₑ 02
- 전자 포화 전류 electron saturation current I_es 15·2, 15·3
- 전자 플라즈마 주파수 electron plasma frequency f_pe 01, 02
- 전자-이온 쌍당 충돌 손실 collisional energy loss per electron–ion pair 𝓔_c 03·8
- 전자-전자 충돌 electron–electron collision e-e 04·5
- 전하 교환 charge exchange CX 01·3, 01·4, 02·5, 03·3, 03·4, 06·1, 07·4, 07·7, 13·9, 15·6, 15·13
- 전하 불균형 charge imbalance δ 02·1
- 접촉 열전도 gap (contact) conductance h 14
- 정류 rectification 07·5, 15·5
- 정상 글로 normal glow 05·5, 05·9
- 정상파 standing wave 08·9, 09·7, 09·9, 11·2, 16·8
- 정상파 효과 standing-wave effect 09
- 정전 결합 capacitive coupling (from the coil) 01·5, 10·5, 15·5
- 정전척 electrostatic chuck ESC 01·4, 01·5, 05·4, 09·8, 10·7, 11·10, 14·2, 17·1, 17·2, 17·6, 17·8
- 종말점 검출 endpoint detection 15
- 주파수 결합 frequency coupling 09·6, 16·8
- 주파수 튜닝 frequency tuning 11·7, 12·9
- 준안정 원자 metastable atom Ar* 03·8, 05·3, 05·8, 08·7, 12·3
- 준중성 quasineutrality 01·1, 02·1, 02·2, 02·3, 02·7, 05·6, 07·1, 07·2, 08·6, 12·5, 16·6, 16·8
- 중성 제한 영역 neutral-limited regime 14
- 중성-이온 플럭스 비 neutral-to-ion flux ratio Γn/Γi 17
- 지연 전위 분석기 retarding field energy analyzer RFEA 15·1, 15·10, 15·13, 16·8
- 지연 펄스 delayed pulsing 12
- 진행파 forward wave 11·2
- 질량 유량 제어기 mass flow controller MFC 01·5, 17·5
ㅊ
- 차단 밀도 cutoff density n_c 02·6, 10·8, 15·9
- 차일드 법칙 Child law 01·4, 05·6, 07·3, 11·5, 11·9, 12·8
- 챔버 매칭 chamber matching 11·11, 15·1, 15·12, 17·5
- 첫 웨이퍼 효과 first-wafer effect 14·6
- 체류 시간 residence time τ_res 01·5, 13·2, 13·3, 13·8, 13·11, 14·6, 17·2
- 초기 잔광 early afterglow 12·2
- 초크 필터 RF choke filter 15·5
- 총에너지 total energy ε_t 01·5, 04·6
- 충돌 단면적 collision cross section σ 03·1
- 충돌 시스 collisional sheath 07·2, 07·3, 07·4, 07·6, 07·7, 16·8, 17·1
- 충돌 연쇄 collision cascade 14·3
- 충돌 주파수 collision frequency ν 03·2, 03·9, 05·7, 05·9, 06·1, 06·7, 09·2, 10·2, 11·5
- 충돌 표피 collisional skin depth δ_c 10·2
- 층상 구조 stratification 08·6
ㅋ
ㅌ
- 타운센드 (단위) townsend Td 04·3, 04·5
- 타운센드 암흑 방전 Townsend dark discharge 05·5
- 탄성 충돌 elastic collision 01·3, 02·7, 03·3, 03·5, 03·8, 04·3, 04·6, 12·1, 13·9, 14·3, 16·4
- 탄성 충돌 에너지 전달 비 elastic energy transfer fraction 2m/M 01
- 탈리 detachment 08·6
- 탐침 스캔 probe scan 15·12, 16·8
- 토로이달 플라즈마 소스 toroidal plasma source 13
- 튜닝 커패시터 tune capacitor C_tune 11
- 특성 임피던스 characteristic impedance Z₀ 11·1, 11·2
ㅍ
- 파셴 법칙 Paschen's law 05·4
- 파셴 점근선 Paschen left asymptote 05·7, 05·9
- 파셴 최소 Paschen minimum V_min 05·2, 14·5
- 파우더 생성 powder formation 13
- 파울러-노드하임 터널링 Fowler–Nordheim tunneling FN 14·7
- 패러데이 암부 Faraday dark space 05·6
- 패러데이 차폐 Faraday shield 10·5, 10·7
- 펄스 동기 주파수 프로파일 pulse-synchronized frequency profile 12·9
- 펄스 주파수 pulse frequency f 08·8, 12·1, 12·9, 12·10
- 펄스 플라즈마 pulsed plasma 11·7, 12, 13·3
- 펄스 DC 바이어스 pulsed-DC bias 12
- 페닝 이온화 Penning ionization 08·7, 12·3
- 페르미 가속 Fermi acceleration 09·3
- 평균 시스 전압 time-averaged sheath voltage V̄ 07·5, 07·6, 09·2, 14·2, 15·10
- 평균 자유 행로 mean free path λ 01·3, 01·4, 01·8, 02·7, 03·1, 03·2, 04·2, 06·6, 07·1, 07·3
- 평균 전자 에너지 mean electron energy ⟨ε⟩ 04
- 포아송 식 Poisson equation 02·1
- 포아송-볼츠만 식 Poisson–Boltzmann equation 02
- 포커스 링 focus ring 09·6, 09·9, 17·5, 17·7, 17·8
- 폴드백 foldback 11·3
- 표류 속도 drift velocity v_d 03·9, 04·3, 06·1
- 표류-확산 근사 drift-diffusion approximation 06·2, 16·2
- 표면 결합 에너지 surface binding energy U_s 14·3
- 표면 피복률 surface coverage θ 14
- 표면파 파장 surface-wave wavelength λ 09
- 표면파 플라즈마 surface-wave plasma 10
- 표피 깊이 skin depth δ 02·6, 10·2, 10·3, 10·9, 11·5, 16·6
- 표피 효과 (CCP) skin effect in CCP 09·7
- 프랑크-콘돈 원리 Franck–Condon principle 13·1
- 플라즈마 plasma 01·1, 01·2, 01·3, 01·4, 01·5, 01·6, 01·7, 01·8, 02·1, 02·2
외 89곳
, 02·3, 02·4, 02·5, 02·6, 02·7, 03·4, 03·5, 03·7, 03·8, 03·9, 04·7, 05·5, 05·6, 05·7, 05·10, 06·2, 06·3, 06·6, 06·7, 06·8, 07·1, 07·5, 07·6, 08·1, 08·2, 08·3, 08·6, 09·1, 09·2, 09·3, 09·4, 09·5, 09·6, 09·7, 09·8, 10·1, 10·2, 10·3, 10·4, 10·5, 10·8, 11·1, 11·3, 11·4, 11·5, 11·7, 11·8, 12·1, 12·2, 12·3, 12·5, 12·6, 12·9, 13·1, 13·3, 13·6, 13·7, 13·8, 13·9, 13·10, 14·1, 14·2, 14·4, 14·7, 14·8, 14·9, 15·1, 15·2, 15·3, 15·5, 15·6, 15·8, 15·9, 15·10, 15·11, 15·12, 15·13, 16·1, 16·5, 16·6, 16·8, 17·1, 17·2, 17·3, 17·4, 17·5, 17·6, 17·8, 17·9 - 플라즈마 도핑 plasma doping PLAD 17·1
- 플라즈마 부하 임피던스 plasma load impedance Z_L 11·5
- 플라즈마 원자층 증착 plasma-enhanced atomic layer deposition PEALD 17·1, 17·9
- 플라즈마 유전율 plasma permittivity ε_p 02, 16·6
- 플라즈마 전위 plasma potential V_p 02·1, 07·5, 08·6, 09·8, 15·2, 15·5
- 플라즈마 직렬 공진 plasma series resonance PSR 09·2
- 플라즈마 파라미터 plasma parameter N_D 02·4
- 플라즈마의 세 조건 plasma criteria 02·7
- 플람 식 Flamm formula 13
- 플럭스 균형 flux balance 07·1
- 피크 전력 peak power P_peak 12·4, 12·7, 12·8, 12·10
ㅎ
- 하류 플라즈마 downstream plasma 17·4
- 하이브리드 모델 hybrid model 16·6, 16·8
- 할로우 캐소드 효과 hollow cathode effect 05·8
- 해리 부착 dissociative attachment 08·6, 12·5, 17·2
- 해리 속도 계수 dissociation rate coefficient k_diss 01·3, 13·1
- 해리 여기 dissociative excitation 15·6, 15·13
- 해리성 부착 dissociative attachment 03·3, 03·4, 04·4, 13·6, 13·8
- 해리성 이온화 dissociative ionization 03·3, 04·7, 13
- 해리율 degree of dissociation 01·7, 08·6, 13·2, 13·3, 13·6, 13·8, 13·11, 15·6, 17·1, 17·4
- 행렬 시스 matrix sheath 07·3
- 헤어핀 공진 탐침 hairpin resonance probe 02, 15·1, 15·9
- 헬리콘 소스 helicon source 10
- 호텔링 T² Hotelling T-squared T² 17
- 홀 파라미터 Hall parameter ω_c/ν 05·9, 06·7
- 확률 가열 stochastic heating 04·2, 04·6, 04·7, 09·2, 09·3, 09·6, 11·5, 16·8
- 확산 계수 diffusion coefficient D 06·2, 13·2, 16·2
- 확산 고유모드 diffusion eigenmode 06·4
- 확산 길이 diffusion length Λ 06·4, 06·6, 13·2
- 확산 손실 시간 diffusion loss time τ 06·5
- 환산 전기장 reduced electric field E/N 01·3, 03, 04·3, 05
- 회로 Q network Q Q 11, 12·9
- 후기 잔광 late afterglow 12·2
- 흡수 전력 absorbed power P_abs 01·5, 03·8, 08·1, 08·3, 08·4, 08·5, 08·6, 09·2, 09·4, 10·2
- 희석 dilution 08·7, 13·7, 13·11
- 히스테리시스 hysteresis 01·5, 10·4, 10·9
A
- ABR 이론 Allen–Boyd–Reynolds theory ABR 15·3
C
- CFₓ 래디컬 fluorocarbon radical CFₓ 13
E
H
I
L
- L형 정합 회로 L-network 11·6
R
- RF 보상 탐침 RF-compensated probe 15·5
S
- SiH₃ 전구체 SiH₃ film precursor 13
T
V
#
- 1/4 파장 변환 quarter-wave transformer 11
- 1차 타운센드 계수 first Townsend ionization coefficient α 05·1
- 2차 전자 방출 계수 secondary electron emission coefficient γ 05·3, 14·5
- 2차 전자 증배 secondary-electron multiplication G 09·5
- 2항 근사 two-term approximation 04·3
- 3체 재결합 three-body recombination 13·2, 13·9, 13·11
- ωτᵢ omega tau_i ωτᵢ 07·7, 10·7, 15·10, 15·13
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